Partícules de tàntales refereixen a petites partícules fetes de metall de tàntal. El tàntal és un element metàl·lic rar, dur i dens amb el nombre atòmic 73. Normalment es troba en minerals com la tantalita, la columbita i el coltà. El tàntal té un punt de fusió molt alt, una resistència a la corrosió excepcional i és biocompatible, el que el fa adequat per al seu ús en una varietat d'aplicacions. Les partícules metàl·liques de tàntal s'utilitzen en la fabricació de components electrònics, com ara condensadors, així com en la producció d'aliatges i superaliatges utilitzats en la indústria aeroespacial i mèdica. Les partícules metàl·liques de tàntal es poden produir mitjançant diversos mètodes, com ara la metal·lúrgia de pols i la deposició química de vapor.
El grau de tantal és el següent:
1) R05200, tàntal no aliat, forn de feix d'electrons o fosa d'arc de buit, o tots dos.
2) R05400, tàntal no aliat, consolidació de la pols-metal·lúrgia.
3) R05255, aliatge de tàntal, 90 % de tàntal, 10 % de tungstè, forn de feix d'electrons o fosa d'arc de buit, o tots dos.
4) R05252, aliatge de tàntal, 97,5 % de tàntal, 2,5 % de tungstè, forn de feix d'electrons o fosa d'arc de buit, o ambdues coses.
5) R05240 aliatge de tàntal, 60 % de tàntal, 40 % de colombi, forn de feix d'electrons o fosa d'arc de buit, o tots dos.
1. Composició química
|
Composició química |
|||||||||
|
Grau |
Puresa |
La impuresa que flueix no més del % |
|||||||
|
Gràcies |
Fe |
Si |
W |
Mo |
Ti |
Cr |
Cu |
Mn |
|
|
Ta-1 |
99.9% |
0.005% |
0.005% |
0.005% |
0.005% |
0.005% |
0.001% |
0.003% |
0.001% |
|
Nb |
C |
N |
O |
H |
Total impuresa |
||||
|
0.05% |
0.01% |
0.005% |
0.02% |
0.001% |
<0.1% |
||||
|
TTa-2 |
Gràcies |
Fe |
Si |
W |
Mo |
Ti |
Cr |
Cu |
Mn |
|
99.5% |
0.01% |
0.01% |
0.01% |
0.01% |
0.01% |
0.005% |
0.003% |
0.01% |
|
|
Nb |
C |
N |
O |
H |
Total impuresa |
||||
|
0.1% |
0.03% |
0.01% |
0.2% |
0.005% |
<0.5% |
||||
|
Mida:5-30mm 30-50mm o segons les necessitats del client. |
|||||||||
2. Propietat mecànica
|
Propietat mecànica |
Grau (ONU) |
Resistència a la tracció min psi( (MPa) |
Límit de rendiment mín, psi (MPa) (2%) |
Elongació min,% (longitud de calibre d'1 polzada) |
|
Ta pur (R05200 R05400) |
30000(207) |
20000(138) |
20 |
|
|
Ta-10W(R05255) |
70000(482) |
60000(414) |
15 |
|
|
Ta-2,5W(R05252) |
40000(276) |
30000(207) |
20 |
|
|
Ta-40Nb(R05240) |
35000(241) |
20000(138) |
25 |
3. Processos de fabricació
El flux de processament de partícules de tàntal inclou generalment els passos següents:
1) Preparació de matèries primeres: les matèries primeres de tàntal es filtren, es renten i s'assequen per garantir la qualitat i l'estabilitat de les partícules metàl·liques de tàntal.
2) Metal·lúrgia de pols: la pols de tàntal tractada es barreja segons una determinada proporció i estat físic, i després es converteix en partícules metàl·liques de tàntal d'una determinada forma i mida mitjançant premsat, sinterització i altres processos.
3) Processament: processament de partícules metàl·liques de tàntal, com ara poliment, descontaminació química, tractament electroquímic, etc., per millorar encara més la qualitat de la superfície i reduir les impureses contingudes a la superfície.
4) Inspecció i control de qualitat: realitzeu una inspecció de qualitat de partícules metàl·liques de tàntal mitjançant una sèrie de mètodes d'inspecció físics, químics, mecànics i altres per garantir que la seva qualitat i rendiment compleixin els requisits estàndard esperats.
5) Embalatge i transport: embalatge i etiquetatge de partícules metàl·liques de tàntal i realització del transport i emmagatzematge segons els requisits del client per garantir la seva qualitat i estabilitat.
4. Principi de funcionament
Les partícules de tàntal es refereixen a partícules de tàntal, que s'utilitzen principalment en la fabricació de plaques de circuit i condensadors i es poden utilitzar com a elèctrodes o materials de revestiment. El seu principi de funcionament està relacionat amb les propietats elèctriques del material. El tàntal té una bona conductivitat elèctrica i resistència a la corrosió i pot suportar entorns d'alta temperatura i alta pressió, de manera que s'utilitza àmpliament en dispositius electrònics d'alt rendiment. En la fabricació de plaques de circuit, es pot utilitzar per omplir buits i porus, millorant la resistència i l'estabilitat estructural de les plaques de circuit. En la fabricació de condensadors, s'utilitzen com a materials d'elèctrode, que poden millorar la capacitat i l'estabilitat dels condensadors. En resum, el principi de funcionament de les partícules metàl·liques de tàntal està relacionat amb les seves propietats materials i l'entorn d'aplicació.
5. Les aplicacions de partícules metàl·liques de tàntal inclouen
1) Àmbit mèdic: S'utilitza per fabricar articulacions artificials, implants i altres dispositius mèdics per la seva bona biocompatibilitat i propietats mecàniques.
2) Aeroespacial: es pot utilitzar per fabricar components aeroespacials a causa del seu alt punt de fusió, alta resistència i resistència a la corrosió.
3) Camp electrònic: es pot utilitzar per fabricar components electrònics com condensadors i microscopis electrònics d'escaneig a causa de les seves bones propietats elèctriques.
4) Indústria química: es pot utilitzar per fabricar equips químics, com ara reactors, intercanviadors de calor, etc., a causa de la seva alta resistència a la corrosió.
Les partícules de tantal també es poden utilitzar per fabricar materials d'alta temperatura, materials òptics, materials de recobriment, etc.
Etiquetes populars: partícules de tàntal, fabricants i proveïdors de partícules de tàntal de la Xina
